鋁及鋁合金陽(yáng)極氧化膜的形成機(jī)理
鋁及其合金的陽(yáng)極氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液,鉛作為陰極,僅起導(dǎo)電作用,(導(dǎo)讀:鋁和鋁合金陽(yáng)極氧化膜概述及應(yīng)用 http://paroma.cn/Article/lvhelvhejinyangjiyan_1.html)。鋁及其合金進(jìn)行陽(yáng)極氧化時(shí),在陽(yáng)極發(fā)生下列反應(yīng):
在陰極發(fā)生下列反應(yīng):
同時(shí)酸對(duì)鋁和生成的陽(yáng)極氧化膜進(jìn)行化學(xué)溶解,其反應(yīng)如下:
陽(yáng)極氧化膜的生成與溶解同時(shí)進(jìn)行,陽(yáng)極氧化初期,膜的生成速度大于溶解速度,膜的厚度不斷增加;隨著厚度的增加,其電阻也增大,結(jié)果使膜的生長(zhǎng)速度減慢,一直到與膜溶解速度相等時(shí),膜的厚度才為一定值。
此外,還可以通過(guò)陽(yáng)極氧化的電壓一時(shí)間曲線(xiàn)來(lái)說(shuō)明氧化膜的生成規(guī)律(圖1)。
整個(gè)陽(yáng)極氧化電壓一時(shí)間曲線(xiàn)大致分為三段:
第一段A:無(wú)孔層形成。曲線(xiàn)ab段,通電剛開(kāi)始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi),電壓由零急劇增至最大值,該值稱(chēng)為臨界電壓。表明此時(shí)在陽(yáng)極表面形成了連續(xù)的、無(wú)孔的薄膜層。此膜的出現(xiàn)阻礙了膜層的繼續(xù)加厚。無(wú)孔層的厚度與形成電壓成正比,與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。
第二段B:多孔層形成。曲線(xiàn)bc段,電壓達(dá)到最大值以后,開(kāi)始有所下降,其下降幅度為最大值的10%~15%。表明無(wú)孔膜開(kāi)始被電解液溶解,出現(xiàn)多孔層。
第三段C:多孔層增厚。曲線(xiàn)cd段,經(jīng)過(guò)約20s的氧化電壓開(kāi)始進(jìn)入平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí),新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng),也就是說(shuō)多孔層在不斷增厚,在每一個(gè)膜胞的底部進(jìn)行著膜的生成和溶解的過(guò)程。當(dāng)膜的生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),即使陽(yáng)極氧化時(shí)間再延長(zhǎng),氧化膜的厚度也不會(huì)再增加,此時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化過(guò)程。
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